id-20241205-090102

Tipologia: Gare - Procedure di Gara

Protocollo 485148 del 09-12-2024

Acquisizione della fornitura, installazione e avvio operativo di un sistema di Reactive Ion Etching (RIE) per l’incisione di pattern su film sottili di Si, SiO, Nb, W, Mo per applicazioni nel campo della micro- e nano-elettronica nell’ambito del Piano Nazionale Ripresa e resilienza (PNRR) missione 4 componente 2 investimento 1.3 - Partenariati estesi a università, centri di ricerca, imprese e finanziamento progetti di ricerca, progetto NQSTI, Spoke 4, CUP B53C22004180005

Avviso di indagine
Link BDNCP Sezione Dati Aperti:
CIG B4B0EEFBD5
Allegati
Allegato 1 - Istanza manifestazione di interesse - Protocollo 485148 del 09-12-2024
Allegato 2 - Informativa trattamento dati - Protocollo 485148 del 09-12-2024
Nomina RUP - Protocollo 483933 del 09-12-2024
Decisione di contrattare e approvazione documenti di gara - Protocollo 12193 del 16-01-2025
Documenti di gara - Protocollo 12193 del 16-01-2025
Proroga termine presentazione offerte - Protocollo 26354 del 30-01-2025
Chiarimento n. 1 - Protocollo 30445 del 04-02-2025
Avviso ammessi/eclusi - Protocollo 49489 del 20-02-2025
NOMINA DELLA COMMISSIONE GIUDICATRICE - Protocollo 52092 del 24-02-2025
Allegato CV Commissari - Protocollo 52092 del 24-02-2025
Provvedimento di aggiudicazione - Protocollo 77726 del 14-03-2025

Pagina aggiornata il 19-03-2025 16:03:04

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