Tipologia: Gare - Procedure di Gara
Protocollo del 04-12-2024
fornitura, installazione e avvio operativo di un sistema di Reactive Ion Etching (RIE) per l’incisione di pattern su film sottili di Si, SiO, Nb, W, Mo per applicazioni nel campo della micro- e nano-elettronica nell’ambito del Piano Nazionale Ripresa e resilienza (PNRR) missione 4 componente 2 investimento 1.3 - Partenariati estesi a università , centri di ricerca, imprese e finanziamento progetti di ricerca, progetto NQSTI, Spoke 4, CUP B53C22004180005